Фоточувствительная поверхностно-барьерная структура на основе германо-силикатного стекла для оптоэлектроники
Фоточувствительная поверхностно-барьерная структура на основе германо-силикатного стекла для оптоэлектроники
Проблема
Повышение эффективности регистрации оптических сигналов в широком спектральном диапазоне, включая видимый и инфракрасный диапазоны, при устранении недостатков традиционных фоточувствительных структур, таких как низкий фототок и необходимость использования высоких напряжений и температур.
Технология
Фоточувствительная структура состоит из кремниевой подложки с туннельно-тонким диэлектрическим слоем оксида кремния и прозрачным электродом, между которыми размещён диэлектрический слой германо-силикатного стекла. Такая конструкция позволяет регистрировать фототок в широком спектре, поглощая излучение как в приповерхностной области подложки, так и в слое диэлектрика. Технология нанесения слоёв осуществляется методами физического испарения и магнетронного распыления в вакууме, что обеспечивает оптимальные электрические и оптические свойства.
Новизна
Использование германо-силикатного стекла в качестве диэлектрика между подложкой и прозрачным электродом значительно расширяет спектральный диапазон, в котором структура способна эффективно регистрировать фототок, в отличие от аналогов, использующих менее эффективные материалы.
Преимущества
Расширение спектра регистрации излучения до видимого и инфракрасного диапазона
Повышение фототока за счёт оптимизации толщины слоёв и использования германо-силикатного стекла
Снижение необходимых напряжений для работы устройства
Устранение необходимости высоких температур отжига при производстве
Формы сотрудничества
Лицензионные соглашения на использование технологии
Область применения
Оптоэлектроника, системы регистрации оптической информации, фотодетекторы, сенсоры для различных диапазонов излучения.